Плескання та полірування витратного

Висока твердість: Твердість MOHS становить 9. 2 - 9. Це робить його добре в програмах, таких як шліфування та різання, і він може ефективно шліфувати та обробляти жорсткі матеріали.

Зовнішній вигляд: це зазвичай білий або поза білим аморфним порошком, і його розмір і форма частинок можуть змінюватися залежно від різних методів підготовки та умов процесів

Зовнішній вигляд: це зазвичай білий або злегка жовтий порошок, і у міру збільшення чистоти колір стає ближче до білого.
Щільність: Щільність відносно висока, приблизно 7,13 г/см ³, що дає перевагу в деяких додатках, які потребують...

Висока твердість: карбід бору має твердість по -друге, лише для алмазного та кубічного нітриду бору, з твердістю MOHS 9,3. Це робить його відмінним для шліфування, різання та інших полів, і може ефективно обробляти різні тверді матеріали.

Висока твердість: Діамант має надзвичайно високу твердість, з твердістю MOHS до 10, що може ефективно перемелювати та вирізати різні матеріали та добре працювати в процесах шліфування та полірування.

Тонкий плівковий клейовий віск підходить для процесу скріплення оптичного скла, сапфіру, кристалів, напівпровідникових матеріалів, таких як кремнієві пластинки, пластинки для германію, карбід кремнію, літієвий ніобат, літієвий танталат,...

Високотемпературна тонка плівкова клейовий віск підходить для процесу скріплення оптичного скла, сапфіру, кристалів, напівпровідникових матеріалів, таких як кремнієві пластинки, пластинні германію, карбід кремнію, літієвий ніобат,...

Напівпровідниковий кварцовий віск ретельно розроблений для ключових процесів у виробництві напівпровідників і є функціональним матеріалом з відмінними показниками. Він синтезується з унікальною формулою та вдосконаленою технологією, яка...

Висока стабільність в'язкості: рідкий віск має відмінну стабільність в'язкості, з мінімальними змінами в'язкості в різних температурних та процесах. Ця функція гарантує, що рідкий віск може підтримувати рівномірну товщину покриття та...

Діапазон шорсткості встановлюється між Ra 0. 5-1. на поверхню обробленого матеріалу через надмірну шорсткість.

Використовуючи спеціальну формулу скляного матеріалу, він проходить високотемпературне плавлення та спеціальні процеси хімічної обробки, що робить його високостійким до загальної кислотної та інших хімічних реагентів. Незалежно від...

Чисті хімічні шліфувальні колодки виготовлені з спеціальних хімічних синтетичних матеріалів, а поверхня містить рясні активні хімічні групи. Ці функціональні групи можуть зазнати специфічних хімічних реакцій з поверхнею відполірованого...